发明名称 |
硅片边缘保护装置和光刻机 |
摘要 |
本发明公开了一种边缘保护装置和光刻机,该边缘保护装置包括:旋转机构,安装在所述光刻机上,且所述旋转机构的旋转中心与光刻机的物镜轴线重合;移动机构,与所述旋转机构的边缘连接,用于调节涂覆保护机构的位置;以及涂覆保护机构,安装在所述移动机构底部,位置与硅片边缘对应,且所述涂覆保护机构与所述硅片边缘软接触。本发明设置有移动机构调节涂覆保护机构的位置,一套硅片边缘保护装置即可实现所有大小的硅片边缘保护;涂覆保护机构与所述硅片边缘软接触,不会发生硅片碰撞,保证硅片质量,降低硅片的报废率。 |
申请公布号 |
CN106292192A |
申请公布日期 |
2017.01.04 |
申请号 |
CN201510270032.8 |
申请日期 |
2015.05.24 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
胡月;黄静莉 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅;李时云 |
主权项 |
一种边缘保护装置,安装在光刻机上,其特征在于,包括:旋转机构,安装在所述光刻机上,且所述旋转机构的旋转中心与光刻机的物镜轴线重合;移动机构,与所述旋转机构连接,用于调节涂覆保护机构的位置;以及涂覆保护机构,安装在所述移动机构底部,位置与硅片边缘对应,且所述涂覆保护机构与所述硅片边缘软接触。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张东路1525号 |