发明名称 |
自动监控膜厚均匀性的方法 |
摘要 |
本发明公开一种自动监控膜厚均匀性的方法。取得多个晶片的薄膜的膜厚数据,其中各晶片的膜厚数据包括在多个量测区域上的多个厚度值,并且同一个晶片的厚度值设定为一膜厚向量。基于各量测区域所获得的上述厚度值获得群均值矩阵。依据群均值矩阵与上述膜厚向量,获得群共变异矩阵。基于量测区域之间的偏离关系,获得变换矩阵。利用变换矩阵、群均值矩阵以及群共变异矩阵,获得偏差范围。基于偏差范围来监控各晶片的薄膜的膜厚均匀性。 |
申请公布号 |
CN106298566A |
申请公布日期 |
2017.01.04 |
申请号 |
CN201510392349.9 |
申请日期 |
2015.07.07 |
申请人 |
力晶科技股份有限公司 |
发明人 |
周明宽;吕建辉;曾筠捷;施介文 |
分类号 |
H01L21/66(2006.01)I;G01B21/08(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
陈小雯 |
主权项 |
一种自动监控膜厚均匀性的方法,包括:取得多个晶片的薄膜的膜厚数据,其中该膜厚数据包括每一上述晶片在多个量测区域上的多个厚度值,其中将属于同一上述晶片的上述厚度值设定为一膜厚向量;分别取出属于相同的上述量测区域中的上述厚度值进行平均计算,而获得一群均值矩阵;依据该群均值矩阵与上述膜厚向量,获得一群共变异矩阵;基于两两相近的上述量测区域之间的偏离关系,获得一变换矩阵;利用该变换矩阵、该群均值矩阵以及该群共变异矩阵,获得一偏差范围;基于该偏差范围来监控每一上述晶片的薄膜的膜厚均匀性。 |
地址 |
中国台湾新竹科学工业园区 |