发明名称 Substrate processing apparatus
摘要 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 복수의 공정 챔버와, 적어도 하나의 로드락 챔버와, 적어도 하나의 이송 챔버를 포함하고, 로드락 챔버를 통해 기판의 반입 및 반출이 직선 방향으로 수행되는 기판 처리 장치로서, 내부에 소정의 공간이 마련되며, 로드락 챔버는 일 측 및 타 측의 서로 다른 위치에 기판의 반입 및 반출 게이트가 마련된 챔버 바디와, 상기 챔버 바디 내에 마련되며, 반입되는 상기 기판을 지지하는 지지대와, 상기 지지대 하측에 마련되며, 상기 지지대를 승하강시키는 승강부를 포함한다.
申请公布号 KR101688842(B1) 申请公布日期 2017.01.03
申请号 KR20100122172 申请日期 2010.12.02
申请人 주성엔지니어링(주) 发明人 라성민;김선욱;박일흥
分类号 H01L21/677;H01L21/67;H01L21/687 主分类号 H01L21/677
代理机构 代理人
主权项
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