发明名称 一种用于原子力显微镜表征的样品制备方法
摘要 本发明提出一种用于原子力显微镜表征的样品制备方法,包括下列步骤:步骤一:将大环分子样品溶解于第一溶剂中,形成均匀分散的大环分子单体溶液;步骤二:将基底放入第二溶剂饱和蒸汽环境,在基底表面加入一定量步骤一所配置大环分子单体溶液;步骤三:将带有上述溶液的基底在第二溶剂饱和蒸汽环境放置孵育一定时间,使大环分子在基底表面自组装形成紧密排列的纳米管单层;步骤四:将上述步骤三所得纳米管样品放置于真空中,使基底表面第一溶剂与第二溶剂充分挥发,使表面大环分子停止动态自组装过程。本发明提出的用于原子力显微镜表征的样品制备方法,具有可获得基底表面紧密排列纳米管单层,更加适用于原子力显微镜高分辨结构表征研究的特点。
申请公布号 CN106199075A 申请公布日期 2016.12.07
申请号 CN201610482237.7 申请日期 2016.06.27
申请人 上海交通大学 发明人 孙洁林;邵志峰;沈轶
分类号 G01Q30/20(2010.01)I 主分类号 G01Q30/20(2010.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 屈蘅
主权项 一种用于原子力显微镜表征的样品制备方法,其特征在于,包括下列步骤:步骤一:将大环分子样品溶解于第一溶剂中,形成均匀分散的大环分子单体溶液;步骤二:将基底放入第二溶剂饱和蒸汽环境,在基底表面加入一定量步骤一所配置大环分子单体溶液;步骤三:将带有上述溶液的基底在第二溶剂饱和蒸汽环境放置孵育一定时间,使大环分子在基底表面自组装形成紧密排列的纳米管单层;步骤四:将上述步骤三所得纳米管样品放置于真空中,使基底表面第一溶剂与第二溶剂充分挥发,使表面大环分子停止动态自组装过程。
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