| 摘要 |
복수의 기판 적재부를 갖는 회전 테이블을 간헐적으로 회전시켜, 복수의 기판 적재부를 반입 반출 영역에 순차 배치하여, 기판 적재부에 기판을 순차 적재하는 반입 스텝과, 회전 테이블을 회전시킴으로써 복수의 기판을 공전시키는 동시에, 서로 반응하는 반응 가스를 교대로 기판 표면에 공급하는 사이클을 복수회 반복하여, 기판 표면에 박막을 성막하는 성막 스텝과, 회전 테이블을 간헐적으로 회전시킴으로써, 반입 반출 영역에 인접하는 가열 영역에 순차 배치되는 기판의 박막을 개질하는 개질 스텝과, 계속해서, 개질 스텝에서 박막이 개질된 기판을 반입 반출 영역에 순차 배치하고, 배치된 기판을 순차 반출하는 반출 스텝을 포함한다. |
