发明名称 FinFET FIN FIELD EFFECT TRANSISTOR FINFET DEVICE AND METHOD FOR FORMING THE SAME
摘要 핀 전계 효과 트랜지스터(FinFET) 디바이스 구조물 및 FinFET 디바이스 구조물을 형성하는 방법이 제공된다. FinFET 디바이스 구조물은 기판 및 기판 상에 형성된 분리 구조물을 포함한다. FinFET 디바이스 구조물은 기판 위로 연장되는 핀 구조물을 또한 포함하고, 핀 구조물은 분리 구조물에 내장된다. FinFET 디바이스 구조물은 핀 구조물 상에 형성된 에피택셜 구조물을 더 포함하고, 에피택셜 구조물은 오각형 유사 형상을 갖고, 에피텍셜 구조물과 핀 구조물 사이의 계면은 분리 구조물의 상부 표면보다 낮다.
申请公布号 KR20160140562(A) 申请公布日期 2016.12.07
申请号 KR20160160552 申请日期 2016.11.29
申请人 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 发明人 장 제하오;쳉 퉁웬;첸 창인;창 치쳉;창 융 중
分类号 H01L29/78 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
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