用于基板处理喷洒头的可重置多区气体输送设备

摘要

本发明提供在过程腔室中使用的可重置的喷洒头。在一些实施例中，一种可重置的喷洒头可包括：主体，具有设置在其中的一或多个充气部；以及一或多个插入件，配置而设置在一或多个充气部内，其中一或多个插入件将可重置的喷洒头区分为多个区。在一些实施例中，一种基板处理系统可包括：过程腔室，具有连接至气体供应器的可重置的喷洒头，用以提供一或多种过程气体至过程腔室，可重置的喷洒头包括主体，该主体具有设置在其中的一或多个充气部以及配置以设置在一或多个充气部中的一或多个插入件，其中该一或多个插入件将可重置的喷洒头区分为多个区。

主权项

一种可重置的喷洒头，包括：主体，其具有设置在其中的一或多个充气部；以及一或多个环状插入件，其配置而可移除地设置在所述一或多个充气部的每一个内，其中，所述一或多个插入件包括形成于其中的一或多个流动路径，以允许气体流经其中，并且所述一或多个插入件的所述一或多个流动路径的各者在所述一或多个充气部中，通过多个通道而从入口回归地扩展至多个出口，以使得所述一或多个充气部的每一个可反转地区分为可独立控制的区。