| 摘要 |
Die vorliegende Erfindung offenbart eine Blendenanordnung (200) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), aufweisend eine Aperturblende (202), eine Obskurationsblende (208), wobei die Aperturblende (202) und die Obskurationsblende (208) zwei voneinander getrennte Bauteile sind und einen an der Aperturblende (202) vorgesehenen Träger (210), mit dem die Obskurationsblende (208) verbunden ist. |
