摘要 |
La présente invention décrit un procédé de déposition d’un revêtement protecteur et/ou décoratif sur un substrat (10). Le procédé comprend la déposition par galvanoplastie d’une couche (20), par exemple d’argent, rugueuse ou poreuse et réfléchissante sur un substrat, suivie par la déposition par un procédé ALD (Atomic Layer Deposition) d’une couche de protection au moins partiellement transparente (30), par exemple un oxyde d’aluminium AI 2 O 3 , un oxyde de titane TiO 2 , un oxyde de silicium SiO 2 , un oxyde de tantale Ta 2 O 5 , déposée au-dessus de la couche rugueuse (20) ou poreuse et réfléchissante. Le procédé de l’invention s’applique à une multitude d’articles décoratifs parmi lesquels les composants horlogers tels que ponts, platines, masses oscillantes, cadrans et autres éléments des montres. |