发明名称 |
基板处理装置以及基板处理方法 |
摘要 |
本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。在使用通过将化学溶液和气体混合而生成的化学溶液的液滴将附着于基板的聚合物去除时,获得充分的去除性能。基板处理装置具有:第1喷嘴(41),其用于将通过将由气体供给机构(71B)供给来的气体和由加热化学溶液供给机构(71A)供给来的加热后的化学溶液混合而形成的化学溶液的液滴朝向基板(W)的表面喷出;第2喷嘴(47),其用于将由加热纯水供给机构(75)供给来的加热后的纯水朝向基板的背面喷出。第1喷嘴向被从第2喷嘴供给来的加热纯水从背面侧加热而温度上升了的基板的表面供给液滴。 |
申请公布号 |
CN106158704A |
申请公布日期 |
2016.11.23 |
申请号 |
CN201610318738.1 |
申请日期 |
2016.05.13 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
石田省贵;福井祥吾;篠原英隆 |
分类号 |
H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;张会华 |
主权项 |
一种基板处理装置,其中,该基板处理装置包括:基板保持部,其用于保持基板;加热化学溶液供给机构,其用于供给加热后的化学溶液;气体供给机构,其用于供给气体;加热纯水供给机构,其用于供给加热后的纯水;第1喷嘴,其用于将所述化学溶液的液滴朝向所述基板的表面喷出,所述化学溶液的液滴是通过将由所述气体供给机构供给来的所述气体和由所述加热化学溶液供给机构供给来的加热后的所述化学溶液混合而形成的;第2喷嘴,其用于将由所述加热纯水供给机构供给来的加热后的所述纯水朝向所述基板的背面喷出,所述第1喷嘴向被从第2喷嘴供给来的加热纯水从所述背面侧加热的所述基板的表面供给所述液滴。 |
地址 |
日本东京都 |