发明名称 碳化硅接面能障萧特基整流器
摘要 本发明公开一种碳化硅接面能障萧特基整流器,包含一碳化硅基板、一漂移层、一p型掺杂区域、多个接面场效应区域、一第一金属层以及一第二金属层。所述漂移层设置于所述碳化硅基板上,所述接面场效应区域设置于所述漂移层内,且由所述p型掺杂区域环绕,所述第一金属层设置于所述漂移层上,所述第二金属层设置于所述碳化硅基板远离所述漂移层的一侧。本发明借由于所述接面场效应区域设置N个圆区域以及(N-1)个连接于两所述圆区域之间的连接区域,利用所述圆区域及所述连接区域的几何特性,有效降低元件的漏电流并提升耐压,改善现有萧特基障壁二极管具有较大漏电流的问题。
申请公布号 CN106158982A 申请公布日期 2016.11.23
申请号 CN201510162864.8 申请日期 2015.04.08
申请人 瀚薪科技股份有限公司 发明人 颜诚廷;洪建中;李傳英;李隆盛
分类号 H01L29/872(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/872(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 梁挥;鲍俊萍
主权项 一种碳化硅接面能障萧特基整流器,其特征在于,包含有:一具有n型重掺杂的碳化硅基板,所述碳化硅基板包含一第一表面以及一相对的第二表面;一设置于所述第一表面并且有一n型掺杂的漂移层,所述漂移层具有一远离所述第一表面的第三表面;一设置于所述漂移层内并接触所述第三表面的p型掺杂区域;多个设置于所述漂移层内且由所述p型掺杂区域环绕而接触所述第三表面的接面场效应区域,所述接面场效应区域各包含N个圆区域以及(N‑1)个连接于两所述圆区域之间的连接区域,N为一自然数;一设置于所述第三表面的第一金属层,所述第一金属层与所述接面场效应区域之间形成一萧特基能障;以及一设置于所述第二表面的第二金属层,所述第二金属层与所述碳化硅基板之间形成一奥姆接触。
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