发明名称 一种均匀性的多弧离子镀膜设备
摘要 本实用新型涉及一种均匀性的多弧离子镀膜设备,包括多弧靶、真空室、设置在真空室内的路轨和架体;所述的架体上设有支撑件、中心轴、回转盘;用于支撑架体的支撑件移动式地安装在路轨上,回转盘套装在中心轴上,回转盘上设有相对回转盘转动的自转轴,自转轴上设有夹具,安装在真空室上的多弧靶朝向夹具。镀膜设备还包括直线驱动机构,真空室上设有第二密封装置,所述的直线驱动机构穿过第二密封装置与架体相接。所述的液压缸穿过第二密封装置连接在伸出臂上,液压缸的活塞杆的端部设有用于抓紧伸出臂的抓爪。本实用新型能实现工件镀膜均匀度的修正,提高了产品整体的品质,属于真空镀膜的技术领域。
申请公布号 CN205710894U 申请公布日期 2016.11.23
申请号 CN201620667913.3 申请日期 2016.06.27
申请人 广东腾胜真空技术工程有限公司 发明人 朱文廓;朱刚劲;朱刚毅
分类号 C23C14/32(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I 主分类号 C23C14/32(2006.01)I
代理机构 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人 裘晖
主权项 一种均匀性的多弧离子镀膜设备,其特征在于:包括多弧靶、真空室、设置在真空室内的路轨和架体;所述的架体上设有支撑件、中心轴、回转盘;用于支撑架体的支撑件移动式地安装在路轨上,回转盘套装在中心轴上,回转盘上设有相对回转盘转动的自转轴,自转轴上设有夹具,安装在真空室上的多弧靶朝向夹具。
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