一种显影均匀性检测方法

摘要

本发明公开了一种显影均匀性检测方法，包括以下步骤：曝光模式预设：根据承印晶圆的规格，在光刻机上进行多个曝光阵列位置的设定，所述曝光阵列由多个曝光单元格整齐排列而成，多个曝光阵列均采用相同的曝光能量设定进行曝光；承印晶圆涂胶、曝光并显影：将承印晶圆涂覆光刻胶后，置于光刻机内，采用预设的曝光模式进行曝光后进行显影处理；显影均匀性判定：根据每个曝光阵列中白色曝光单元格的数量，计算每个曝光阵列的中间显影能力值，中间显影能力值等于白色曝光单元格对应的曝光能量值的平均值，比对不同位置曝光阵列的中间显影能力值，即可完成显影均匀性判断。本发明操作简单，有效提高了显影均匀性检测的效率。

主权项

一种显影均匀性检测方法，包括以下步骤：S101.曝光模式预设：根据承印晶圆的规格，在光刻机上进行多个曝光阵列位置的设定，所述曝光阵列由多个曝光单元格整齐排列而成，多个曝光阵列均采用相同的曝光能量设定进行曝光；S102.承印晶圆涂胶、曝光并显影：将承印晶圆涂覆光刻胶后，置于光刻机内，采用预设的曝光模式进行曝光后进行显影处理；S103.显影均匀性判定：观察显影后承印晶圆上曝光阵列中的曝光单元格，其中，曝光单元格呈黑色代表有大量光刻胶残留；曝光单元格呈彩色代表有少量光刻胶残留；曝光单元格呈白色代表显影干净，没有光刻胶残留；根据每个曝光阵列中白色曝光单元格的数量，计算每个曝光阵列的中间显影能力值，中间显影能力值等于白色曝光单元格对应的曝光能量值的平均值，比对不同位置曝光阵列的中间显影能力值，即可完成显影均匀性判断。