发明名称 LIQUID COMPOSITION FOR FORMING SILICA POROUS FILM AND SILICA POROUS FILM FORMED FROM SUCH LIQUID COMPOSITION
摘要 본 발명은, 원하는 공공 직경으로 간편하게 제어할 수 있고, 또한 기재와의 밀착성이 양호하고, 크랙의 발생이 잘 일어나지 않는 실리카 다공질막을 형성하기 위한 액 조성물 및 액 조성물로 형성된 실리카 다공질막의 제공을 목적·과제로 한다. 본 발명의 실리카 다공질막 형성용 액 조성물은, 규소알콕시드로서의 테트라메톡시실란 또는 테트라에톡시실란의 가수분해물과, 평균 입자 직경이 40 ㎚ 이하인 1 차 입자와 평균 입자 직경이 상기 1 차 입자보다 큰 20 ∼ 400 ㎚ 인 2 차 입자를 갖는 흄드실리카 입자가 액체 매체 중에 분산된 실리카졸을 혼합하여 조제되고, 상기 실리카졸의 SiO분 (B) 에 대한 상기 가수분해물 중의 SiO분 (A) 의 질량비 (A/B) 가 1/99 ∼ 60/40 의 범위에 있다. 본 발명의 액 조성물은, 촉매 담체, 가스 필터, 여과체 등에 바람직한 실리카 다공질막을 형성하는 것에 이용할 수 있다.
申请公布号 KR20160132018(A) 申请公布日期 2016.11.16
申请号 KR20167024452 申请日期 2015.03.11
申请人 MITSUBISHI MATERIALS CORP. 发明人 MASUYAMA KOUTARO;HIGANO SATOKO;YAMASAKI KAZUHIKO
分类号 B01D71/02;B01D53/22;B01D67/00;C09D183/04 主分类号 B01D71/02
代理机构 代理人
主权项
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