Apparatus and Method for Cleaning Membrane using microbubbles and centibubbles

摘要

실시 예는, 원수가 유입되는 침지조; 상기 침지조 내에 배치되어 상기 원수를 여과하는 분리막; 상기 침지조에 주입되는 제1기포를 생성하는 제1기포발생장치; 상기 침지조에 주입되는 제2기포를 생성하는 제2기포발생장치; 및 상기 분리막의 막오염지수를 계산하고, 계산된 막오염지수에 따라 상기 제1기포와 제2기포의 분사 주기를 결정하는 제어부;를 포함하고, 상기 제1기포의 평균직경은 0.1cm이상 10.0cm이하이고, 상기 제2기포의 평균직경은 1.0㎛ 이상 100㎛이하이고, 상기 제어부는 막오염지수가 높을수록 상기 제2기포의 분사 주기를 짧게 제어하는 막세정 장치 및 방법을 개시한다.