一种增强附着力的光电薄膜及其应用

摘要

本发明公开了一种增强附着力的光电薄膜，该薄膜结构包括衬底、界面修饰层和金属薄膜层，所述界面修饰层为一层、两层或数层，各层界面修饰层材料相同或不同；所述衬底为玻璃、石英、含铅玻璃、陶瓷、氧化锆、氧化铝、硅片、云母和塑料基片；所述界面修饰层为氧化硅，氧化铝，氧化锆、氧化钛或其两种或几种复合；所述金属薄膜层为铝、银、铜、金及各类金属合金。界面修饰层采用CVD、PVD或化学法如溶胶凝胶法制备；金属薄膜层采用PVD、CVD或化学电镀等方法制备。采用界面修饰层后，基片衬底与金属薄膜层附着性能明显提升，很好克服了金属薄膜层在基片衬底易脱落的弱点。该光电薄膜可应用于光电器件电极、光反射镜或抗电磁波干扰的防护层等领域。

主权项

一种增强附着力的光电薄膜，其特征在于，该薄膜具有衬底、在衬底上依次沉积界面修饰层和金属薄膜层结构，所述界面修饰层为一层、两层或数层，各层界面修饰层材料相同或不同；所述衬底为玻璃、石英、含铅玻璃、陶瓷、氧化锆、氧化铝、水晶玻璃、硅片、云母或塑料基片；所述界面修饰层为氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化钛、氧化镍、氧化镁、氧化铌、氧化铋其中一种或其两种或几种复合；所述金属薄膜层为金属或金属合金；化学法制备界面修饰层经退火后，采用真空镀膜工艺把金属或金属合金层沉积在界面修饰层上经再次退火获得光电薄膜。