| 发明名称 |
CURABLE COMPOSITION FOR IMPRINTS AND PRODUCING METHOD OF POLYMERIZABLE MONOMER FOR IMPRINTS |
| 摘要 |
본 발명은 패턴 전사성이 우수한 임프린트용 경화성 조성물을 제공한다. 임프린트용 경화성 조성물은 (A) 중합성 모노머 및 (B) 중합 개시제를 포함하고, 상기 (A) 중합성 모노머의 적어도 1종을 반복단위로서 포함하는 폴리머를 실질적으로 함유하지 않는다. |
| 申请公布号 |
KR20160127182(A) |
申请公布日期 |
2016.11.02 |
| 申请号 |
KR20167030150 |
申请日期 |
2011.04.01 |
| 申请人 |
FUJIFILM CORPORATION |
发明人 |
KODAMA KUNIHIKO |
| 分类号 |
H01L21/027;B29C59/02;B82Y10/00;B82Y40/00;C08F2/40;C08F2/48;C08F2/50;C08F20/00;G03F7/00 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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