发明名称 |
一种阵列基板及其制备方法、显示装置 |
摘要 |
本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,属于显示技术领域,其可解决现有的沟道处的段差大易导致台阶处源漏极短接、有机层过孔处易发生光刻胶残留造成显示不良的问题。本发明的阵列基板中,在栅极绝缘层远离栅极的一侧设置凹部,将有源层设于凹部内,使得栅极绝缘层远离栅极的一面与有源层远离栅极的一面尽量齐平。这样形成的源漏极可以平坦的覆盖在其上方,源漏极不会短接。此外,在后续工艺中相当于用栅极绝缘层抬高源漏极,减小有机层过孔处的段差,不会导致光刻胶残留,影响像素电极与源漏极搭接。本发明的阵列基板适用于各种显示装置,尤其适用于像素高的液晶显示装置。 |
申请公布号 |
CN106057827A |
申请公布日期 |
2016.10.26 |
申请号 |
CN201610663487.0 |
申请日期 |
2016.08.12 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
张俊;占建英;杨丽娟;周如;王一军 |
分类号 |
H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
柴亮;张天舒 |
主权项 |
一种阵列基板,其特征在于,包括多个薄膜晶体管,每个所述薄膜晶体管包括依次形成于衬底上的栅极、位于所述栅极上的栅极绝缘层和有源层,其中,所述栅极绝缘层远离所述栅极的一侧设有凹部,所述有源层设于所述凹部内;所述凹部与所述栅极在衬底上的投影至少部分重合。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |