发明名称 聚酰亚胺薄膜及其制备方法
摘要 本发明涉及一种聚酰亚胺薄膜及其制备方法,所述聚酰亚胺薄膜包括:聚酰亚胺树脂;及氟类粒子,所述氟类粒子包括平均粒径为300nm以下的一次粒子和所述一次粒子凝聚而具有平均直径为300nm以下的气孔的、平均粒径为10μm以下且平均表观比重为1.2g/ml以下的二次粒子。本发明的聚酰亚胺薄膜具有优异的物理性质的同时,能够显现更低的介电常数,因此,可有用地使用于需要低介电常数的印刷电路板等的电气/电子仪器及零件的制造。
申请公布号 CN106062049A 申请公布日期 2016.10.26
申请号 CN201480068818.5 申请日期 2014.12.01
申请人 韩国爱思开希可隆PI股份有限公司 发明人 赵成一;李吉男;金圣原
分类号 C08J5/18(2006.01)I;C08L79/08(2006.01)I;C08L27/12(2006.01)I 主分类号 C08J5/18(2006.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 王莹;王朋飞
主权项 一种聚酰亚胺薄膜,其包括:聚酰亚胺树脂;及氟类粒子,所述氟类粒子包括平均粒径为300nm以下的一次粒子和所述一次粒子凝聚而具有平均直径为300nm以下的气孔的、平均粒径为10μm以下且平均表观比重为1.2g/ml以下的二次粒子。
地址 韩国忠清北道