发明名称 |
皮膜付き基材、プラズマエッチング装置用部品およびそれらの製造方法 |
摘要 |
【課題】耐プラズマ性が高く、剥がれ難く、耐酸性に優れ、表面抵抗値が高い溶射皮膜を基材の表面に有する皮膜付き基材の提供。【解決手段】基材の表面上に皮膜を備える皮膜付き基材であって、前記皮膜は、厚さが10〜1000μmであり、希土類元素(Ln)のフッ化物および酸化物を主成分として含み、前記皮膜の表面において、希土類元素(Ln)の酸化物を主成分とし、単斜晶構造を備え、特定直径の粒子状部分[α]と、希土類元素(Ln)のフッ化物を主成分とし、斜方晶構造を備え、特定直径の粒子状部分[β]とが、希土類元素(Ln)のフッ化物を主成分とするアモルファスのマトリックス中に分散して存在しており、さらに、前記皮膜の表面について光学顕微鏡を用いて観察すると、白色のシミ状部分が確認され、このシミ状部分が観察視野内に占める面積率が低い、皮膜付き基材。【選択図】図1 |
申请公布号 |
JP6005314(B1) |
申请公布日期 |
2016.10.12 |
申请号 |
JP20160062012 |
申请日期 |
2016.03.25 |
申请人 |
リバストン工業株式会社 |
发明人 |
石川 哲也;石川 幸一;山田 正志;細川 禎也;山本 亮一 |
分类号 |
H01L21/3065;C23C4/04;C23C4/10 |
主分类号 |
H01L21/3065 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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