发明名称 |
待测样品分析方法及待测样品分析装置 |
摘要 |
本发明涉及待测样品分析方法,其包括:对测定样品加热而使DNA发生变性的S14的处理工序,进行抑制自测定样品发生的自身荧光的脱色处理的S21的处理工序,使荧光染料结合于测定样品中的被检物质的S16、S17的处理工序,及向测定样品照射光而对自荧光染料发生的荧光进行摄像的S19的摄像工序。在S21的脱色工序之前进行S14的DNA变性处理工序。 |
申请公布号 |
CN106018355A |
申请公布日期 |
2016.10.12 |
申请号 |
CN201610177898.9 |
申请日期 |
2016.03.25 |
申请人 |
希森美康株式会社 |
发明人 |
久保卓也;岩永茂树 |
分类号 |
G01N21/64(2006.01)I;G01N1/44(2006.01)I |
主分类号 |
G01N21/64(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
郑天松 |
主权项 |
待测样品分析方法,其包括:对测定样品加热而使DNA发生变性的DNA变性处理工序,抑制自上述测定样品发生的自身荧光的脱色工序,使荧光染料结合于上述测定样品中的被检物质的标记工序,及向上述测定样品照射光而对自上述荧光染料发生的荧光进行摄像的摄像工序,其中在上述脱色工序之前进行上述DNA变性处理工序。 |
地址 |
日本兵库县 |