| 发明名称 | 一种高世代平板铜制程光阻剥离液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种高世代平板铜制程光阻剥离液，按质量百分比计包括：5～25%的醇胺、5～30%的醇、0.01～3%的金属抗蚀剂、0.1～1%的有机酸和25～75%的有机溶剂。本发明高世代平板铜制程光阻剥离液组分简单，采用碱性较低的醇胺侵蚀光刻胶，并且向剥离液组分中添加有机酸作为助溶剂，提高有机溶剂体系对光刻胶的剥离和溶解能力，且通过加入抗蚀剂减少剥离液体系对铜和基板的侵蚀，处理后的铜阵列无光刻胶残留；剥离液体系具有低挥发形和低毒性，使用温度下损失小，组分稳定且水溶性好，便于清洗。 | ||
| 申请公布号 | CN106019863A | 申请公布日期 | 2016.10.12 |
| 申请号 | CN201610551574.7 | 申请日期 | 2016.07.14 |
| 申请人 | 江阴江化微电子材料股份有限公司 | 发明人 | 邵勇;殷福华;栾成;陈林;朱龙;顾玲燕;赵文虎;李英 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 江阴大田知识产权代理事务所(普通合伙) 32247 | 代理人 | 杜兴 |
| 主权项 | 一种高世代平板铜制程光阻剥离液，其特征在于，剥离液按质量百分比计包括：5～25%的醇胺、5～30%的醇、0.01～3%的金属抗蚀剂、0.1～1%的有机酸和25～75%的有机溶剂。 | ||
| 地址 | 214400 江苏省无锡市江阴市周庄镇长寿云顾路581号 | ||