发明名称 |
一种强制对流生长晶体硅的方法及其装置 |
摘要 |
本发明公开了一种强制对流生长晶体硅的方法及装置,通过在多晶硅铸锭过程中,在硅熔体中通过机械搅拌直接引入强制对流,降低硅熔体水平温度梯度,提供分凝作用的排杂效果,使用氮化硅作为制作搅拌硅熔体的叶轮和支撑轴;同时,在晶体生长过程中通过氮化硅叶轮的降低来测量晶体生长速率,在不污染及硅熔体的基础上实现对晶体生长速率的测量,从而改善后续晶体生长条件;随着晶体不断生长,调节叶轮的转速和距离晶体的高度,从而维持晶体上方硅熔体的稳定对流。 |
申请公布号 |
CN106012007A |
申请公布日期 |
2016.10.12 |
申请号 |
CN201610581744.6 |
申请日期 |
2016.07.22 |
申请人 |
常州天合光能有限公司 |
发明人 |
尹长浩;熊震;刘超 |
分类号 |
C30B28/06(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I |
主分类号 |
C30B28/06(2006.01)I |
代理机构 |
浙江永鼎律师事务所 33233 |
代理人 |
郭小丽 |
主权项 |
一种强制对流生长晶体硅的方法,包括如下步骤:S1:将硅料加入铸锭炉,开始硅料的熔化步骤,待硅料完全熔化后,边旋转边将氮化硅叶轮逐渐浸入硅熔体中;S2:降低铸锭炉底部的温度,开始晶体生长,在硅熔体的底部逐渐形成硅晶体,间隔固定时间停止氮化硅叶轮转动并降低氮化硅叶轮高度,通过测量氮化硅叶轮的下降幅度测量晶体生长高度,然后提升氮化硅叶轮至距离硅晶体上部3‑8cm,缓慢增加氮化硅叶轮转速,并维持恒定;S3:随着长晶高度的不断增加,不断提升氮化硅叶轮的高度,并始终保持氮化硅叶轮高于硅熔体底部;S4:根据测算得到晶体的实际生长速率,调节后续的降温工艺条件,从而获得最佳晶体的生长条件。 |
地址 |
213031 江苏省常州市新北区天合光伏产业园天合路2号 |