一种用于晶体硅片的回刻装置

摘要

本实用新型公开了一种用于晶体硅片的回刻装置，包括回刻槽、HF承载槽和H₂O₂承载槽，还设有控温槽，所述HF承载槽设于控温槽之内；所述HF承载槽的顶部通过气体导管和H₂O₂承载槽联通；H₂O₂承载槽与回刻槽通过管道联通；回刻槽和HF承载槽不联通。本实用新型通过在HF承载槽外围设置控温槽，控制HF的挥发性，再使用压缩干燥空气携带挥发的HF气体进入到H₂O₂液体中，形成了浓度稳定的回刻液，最终稳定地控制了回刻浓度，可稳定的去除扩散后死层。

主权项

一种用于晶体硅片的回刻装置，包括回刻槽(1)、HF承载槽(2)和H₂O₂承载槽(3)，其特征在于：还设有控温槽(4)，所述HF承载槽设于控温槽之内；所述HF承载槽的顶部通过气体导管(5)和H₂O₂承载槽联通；H₂O₂承载槽与回刻槽通过管道(6)联通；回刻槽和HF承载槽不联通。