成膜方法和成膜装置

摘要

提供可有效地进行防污膜的成膜的成膜装置，该防污膜的耐磨耗性能不但可耐实用而且耐磨耗性能也进一步得到提高。本发明的成膜装置(1)为将具有用于保持两个以上基板(14)的基体保持面的基板支架(12)可旋转地配设在真空容器(10)内的成膜装置(1)，其中，该成膜装置(1)是具有离子源(38)以及作为成膜单元的蒸镀源(34)和限制板(36)的构成，所述离子源(38)按照可向着上述基体保持面的一部分区域照射离子束这样的构成、配置和/或朝向被设置在真空容器(10)内，所述作为成膜单元的蒸镀源(34)和限制板(36)按照可向着作为上述基体保持面的一部分且与基于离子源(38)的离子束的照射区域的至少一部分重复的区域来供给成膜材料这样的构成被设置在真空容器(10)内。

主权项

一种成膜方法，其特征在于，在将两个以上基体按照其成膜面全部朝下的方式保持于朝下配置的圆顶状基体保持单元的整个底面的基体保持面上的状态下，一边使所述基体保持单元绕着设于所述基体保持单元的中央的垂直轴以3rpm～100rpm的速度旋转，一边在对全部基体的成膜面进行清洁后在该基体的清洁面进行薄膜的成膜，通过向着所述基体保持面的一部分区域照射能量粒子，使所述能量粒子仅与保持于所述基体保持面上并进行旋转的全部基体中的移动到了所述区域的由两个以上基体构成的特定基体组接触，由此来清洁全部基体的成膜面，之后，通过向着所述基体保持面的与所述能量粒子的照射区域不同的一部分区域供给薄膜的成膜材料，将所述成膜材料仅供给至移动到了所述区域的由两个以上基体构成的特定基体组，由此将薄膜堆积在全部基体的清洁面上。