发明名称 |
一种可寻址层析视场的液晶基成像探测芯片 |
摘要 |
本实用新型公开了一种可寻址层析视场的液晶基成像探测芯片。包括面阵电控液晶成像微透镜和面阵光敏探测器,其中,单元电控液晶成像微透镜用于对目标通过物镜形成的压缩光场执行进一步的汇聚式压缩,通过调变加载在所述面阵电控液晶成像微透镜上的信号电压的均方幅值,调变所述单元电控液晶成像微透镜的光汇聚能力,进而调变由物镜和所述单元电控液晶成像微透镜共同确定的目标对焦平面,从而在深度方向上改变能清晰成像的目标图层,执行成像视场在深度方向上的可寻址层析检录。该芯片易与其它功能性光学、光电及电子学结构耦合,易于插入常规成像光路中替换传统光敏成像芯片执行寻址层析视场式的成像探测。 |
申请公布号 |
CN205621734U |
申请公布日期 |
2016.10.05 |
申请号 |
CN201620197160.4 |
申请日期 |
2016.03.15 |
申请人 |
华中科技大学 |
发明人 |
张新宇;信钊炜;魏东;袁莹;彭莎;张波;吴勇;王海卫;谢长生 |
分类号 |
H01L27/146(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/146(2006.01)I |
代理机构 |
华中科技大学专利中心 42201 |
代理人 |
廖盈春 |
主权项 |
一种可寻址层析视场的液晶基成像探测芯片,其特征在于,包括面阵电控液晶成像微透镜和面阵光敏探测器;所述面阵电控液晶成像微透镜包括液晶材料层,依次设置在液晶材料层上表面的第一液晶初始定向层、图形化电极层和第一基片,以及依次设置在液晶材料层下表面的第二液晶初始定向层、平面电极层和第二基片;所述液晶材料层的厚度为微米级,所述平面电极层由导电透光膜构成,所述图形化电极层由其上布有m×n元阵列分布的电极微孔的导电透光膜构成,所述平面电极层和所述图形化电极层的厚度为纳米级,其中,m、n均为大于1的整数;所述面阵电控液晶成像微透镜被划分成m×n元阵列分布的单元电控液晶成像微透镜,所述单元电控液晶成像微透镜与所述电极微孔一一对应,每个电极微孔位于对应的单元电控液晶成像微透镜的中心,形成单元电控液晶成像微透镜的上电极,所有单元电控液晶成像微透镜的下电极由所述平面电极层提供;所述面阵光敏探测器被划分成m×n元阵列分布的子面阵光敏探测器,所述子面阵光敏探测器与所述单元电控液晶成像微透镜一一对应。 |
地址 |
430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号 |