发明名称 |
识别重要且次要因素不敏感的痕迹特征的方法设备和系统 |
摘要 |
提供了一种用于识别重要的且次要因素不敏感的痕迹特征的方法、设备和计算机系统。计算机计算一个或多个次要因素对目标的第一回归中的残差。所述计算机计算所述一个或多个次要因素对一个或多个痕迹特征集中的一个或多个痕迹特征的每个的第二回归中的残差。所述计算机对于所述一个或多个痕迹特征集,计算所述第二回归中的残差对所述第一回归中的残差的第三回归中的确定系数。所述计算机通过对所述确定系数排序,对所述一个或多个痕迹特征集排名。所述计算机基于对所述一个或多个痕迹特征集的排名,确定重要痕迹特征集。 |
申请公布号 |
CN105989372A |
申请公布日期 |
2016.10.05 |
申请号 |
CN201610157620.5 |
申请日期 |
2016.03.18 |
申请人 |
国际商业机器公司 |
发明人 |
R.J.贝斯曼;A.杜兰德哈;F.A.蒂普 |
分类号 |
G06K9/62(2006.01)I |
主分类号 |
G06K9/62(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
邸万奎 |
主权项 |
一种用于识别重要的且次要因素不敏感的痕迹特征的方法,该方法包括:由计算机计算一个或多个次要因素对目标的第一回归中的残差;由所述计算机计算所述一个或多个次要因素对一个或多个痕迹特征集中的一个或多个痕迹特征的每个的第二回归中的残差;由所述计算机对于所述一个或多个痕迹特征集,计算所述第二回归中的残差对所述第一回归中的残差的第三回归中的确定系数;由所述计算机通过对所述确定系数排序,对所述一个或多个痕迹特征集排名;以及由所述计算机基于对所述一个或多个痕迹特征集的排名,确定重要痕迹特征集。 |
地址 |
美国纽约阿芒克 |