发明名称 一种提高射频消融治疗针表面光滑度的方法
摘要 本发明提供了一种提高射频消融治疗针表面光滑度的方法。该方法在射频治疗针表面制备改性涂层,其中针尖部分为具有金属掺杂DLC导电涂层,不仅能够降低针尖阻力,减少针尖与周围组织的粘连和感染,而且能够扩大恶性肿瘤射频毁损范围,增强疗效;在针杆部分制备DLC绝缘涂层,不仅能够降低针杆阻力,减少针杆与周围组织的粘连和感染,而且能够保护健康组织不遭受损伤。同时,本发明具体结合磁控溅射、离子源沉积等技术,通过包覆遮挡、分布沉积的方法,并且通过调控基体施加脉冲负偏压,不仅使制得的涂层具有强膜基结合力以及高的光滑度及绝缘性,而且有效解决了针尖因断裂而钝化的问题。
申请公布号 CN104073762B 申请公布日期 2016.09.14
申请号 CN201410283461.4 申请日期 2014.06.23
申请人 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 发明人 张栋;方勇;汪爱英;潘宏铭;杨巍
分类号 C23C14/06(2006.01)I;C23C14/02(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I;A61B18/12(2006.01)I 主分类号 C23C14/06(2006.01)I
代理机构 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人 单英
主权项 一种提高射频消融治疗针表面光滑度的方法,其特征是:以治疗针为基体,在其表面制备改性涂层,其中针尖部分的改性涂层为具有金属掺杂的类金刚石导电涂层,针杆部分的改性涂层为类金刚石绝缘涂层,制备方法包括如下步骤:一、针尖涂层的制备(1)清洗治疗针后将其针杆部分包覆遮挡,然后置于真空腔体中;(2)向真空腔体通入氩气,向基体施加脉冲负偏压‑300V~‑600V,利用辉光等离子体进行表面刻蚀;(3)向腔体通入氩气,开启钛溅射靶电源,并控制向基体施加脉冲负偏压‑50V~‑100V,在针尖部位沉积金属钛过渡层;(4)向腔体通入氩气和碳氢气体,开启离子源与金属溅射靶电源,并控制向基体施加脉冲负偏压‑50V~‑100V,在针尖部位共沉积金属掺杂的类金刚石导电涂层;经过以上步骤(1)‑(4)后,针尖涂层已制备完毕,然后进行下述(5)‑(8)进行针杆涂层;二、针杆涂层的制备(5)取出治疗针,去除针杆部分的包覆遮挡,将表面覆有涂层的针尖部分进行包覆遮挡后再次置于真空腔体中;(6)向腔体通入氩气,并向基体施加脉冲负偏压‑100V~‑200V,开启离子源电源,进行表面刻蚀;(7)向腔体通入氩气,开启金属钛溅射靶电源,并控制向基体施加脉冲负偏压‑100V~‑200V,在针杆部位沉积金属钛过渡层;(8)向腔体中通入碳氢气体,开启离子源电源,并向基体施加脉冲负偏压‑100V~‑200V,在针杆部位沉积类金刚石绝缘涂层。
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