发明名称 用于半导体装置的粘合剂膜
摘要 本发明提供了一种用于半导体装置的粘合剂膜,所述粘合剂膜包括在0℃至5℃下具有50μm/m·℃至150μm/m·℃的线性膨胀系数的基膜。所述粘合剂膜在低温储存较长时间后具有优异的卷绕形状稳定性,从而在以后的半导体封装工艺中不会导致倾斜现象并降低缺陷。
申请公布号 CN104263266B 申请公布日期 2016.09.07
申请号 CN201410415678.6 申请日期 2011.10.09
申请人 第一毛织株式会社 发明人 鱼东善;宋珪锡;黃珉珪;宋基态;徐大虎
分类号 C09J7/02(2006.01)I;C09J133/00(2006.01)I;C09J163/02(2006.01)I;C09J163/04(2006.01)I;C09J163/00(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I 主分类号 C09J7/02(2006.01)I
代理机构 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人 张燕;王珍仙
主权项 一种用于半导体装置的粘合剂膜,包括:基膜,所述基膜在0℃至5℃下具有50μm/m·℃至150μm/m·℃的线性膨胀系数,并且在5℃下放置120小时后具有大于0且小于等于0.1%的热收缩率,在所述基膜一面上的压敏粘合剂层;以及依次堆叠在所述压敏粘合剂层一面上的粘结层和保护膜,其中所述线性膨胀系数是通过将温度以5℃/分钟从‑20℃升至300℃时测定样品的热膨胀系数而得到的;并且所述热收缩率是通过以5N的卷绕器张力卷绕样品,在5℃下储存120小时,对所述样品的四个部分的各个长度测定三次,得到储存前和储存后的平均值之差而获得的,所述压敏粘合剂层为UV固化压敏粘合剂层。
地址 韩国庆尚北道