发明名称 |
相位差膜的制造方法、偏振片和液晶显示装置 |
摘要 |
本发明的解决课题在于提供相位差表现性优异且耐湿性良好的相位差膜的制造方法。另外,提供具备该相位差膜的偏振片和具备该相位差膜的色移少且对比度高的液晶显示装置。本发明的相位差膜的制造方法的特征在于,是含有平均乙酰基取代度为2.0~2.5的范围内的乙酸纤维素且含水率为1.0质量%以下的相位差膜的制造方法,该相位差膜含有范德华体积为<img file="DDA0000594770040000011.GIF" wi="339" he="71" />的范围内的化合物,且至少经过特定的5个工序来制造该相位差膜。 |
申请公布号 |
CN104272148B |
申请公布日期 |
2016.08.31 |
申请号 |
CN201380022360.5 |
申请日期 |
2013.04.26 |
申请人 |
柯尼卡美能达株式会社 |
发明人 |
高木隆裕 |
分类号 |
G02B5/30(2006.01)I;B29C41/28(2006.01)I;B29C55/02(2006.01)I;C08J5/18(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I;G02F1/13363(2006.01)I;B29K1/00(2006.01)I;B29L7/00(2006.01)I;B29L11/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/30(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
苗堃;赵曦 |
主权项 |
一种相位差膜的制造方法,是含有平均乙酰基取代度为2.0~2.5的范围内的乙酸纤维素且含水率为1.0质量%以下的相位差膜的制造方法,其特征在于,该相位差膜含有范德华体积为<img file="FDA0000946764020000013.GIF" wi="334" he="69" />的范围内的化合物,且至少经过以下的5个工序来制造该相位差膜,第1工序:胶浆制备工序,将平均乙酰基取代度为2.0~2.5的范围内且含水率为3.0%以上的乙酸纤维素溶解于含有90质量%以上的卤素系有机溶剂的有机溶剂中而制备胶浆,第2工序:膜状物形成工序,将所述胶浆在金属带上流延而形成膜状物,第3工序:膜状物剥离工序,将形成的所述膜状物从所述金属带剥下,第4工序:拉伸工序,将剥下的所述膜状物拉伸,第5工序:干燥工序,干燥温度为140℃以上。 |
地址 |
日本东京都 |