| 发明名称 |
ASYMMETRIC TEMPLATE SHAPE MODULATION FOR PARTIAL FIELD IMPRINTING |
| 摘要 |
임프린트 템플릿이 비대칭적으로 변형되어 템플릿 중심으로부터 이격된 위치에서 기판 상의 국부 필드와 최초로 접촉하도록 허용하기 위해 국부 필드 임프린팅 시스템 및 방법이 제공된다. |
| 申请公布号 |
KR20160103020(A) |
申请公布日期 |
2016.08.31 |
| 申请号 |
KR20167018482 |
申请日期 |
2014.12.31 |
| 申请人 |
CANON NANOTECHNOLOGIES, INC. |
发明人 |
GANAPATHISUBRAMANIAN MAHADEVAN;KINCAID MATTHEW M.;CHOI BYUNG JIN;SREENIVASAN SIDLGATA V. |
| 分类号 |
G03F7/00;G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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