粉末等离子处理装置

摘要

公开一种粉末等离子处理装置。粉末等离子处理装置包括：腔体，其用于对粉末进行等离子处理；粉末供应部，其位于所述腔体的上部；以及多个板状的面放电等离子模块，其位于所述粉末供应部的下方，并且位于所述腔体内，其中所述面放电等离子模块的面和面之间彼此相隔。这种粉末等离子处理装置能够对粉末进行均匀处理，能够通过控制粉末接触等离子的时间对粉末进行有效处理。

主权项

一种粉末等离子处理装置，是用于对粉末进行等离子处理的装置，所述装置包括：腔体，其用于对粉末进行等离子处理；以及板状面放电等离子模块，其位于所述腔体内，所述板状面放电等离子模块包括绝缘层、位于所述绝缘层的一面且用于接入高压的高压接入电极及位于所述绝缘层的另一面的接地电极，所述高压接入电极及所述接地电极中至少一种以条形彼此相隔地并列排列，粉末位于所述板状面放电等离子模块上及条形的所述电极的周围,当向所述接地电极与所述高压接入电极接入交流电压时，条形的所述电极的周围产生等离子，产生的所述等离子对所述粉末进行处理。