过滤器装置

摘要

本发明提出一种过滤器装置，适用于向半导体制造领域的光刻机提供洁净的气浴气体。该过滤器装置包括风道外壁、于所述风道外壁内侧并排设置的多个过滤器以及多个分流板；所述过滤器平行于入风方向安装；所述分流板安装于过滤器的端部；且分流板与过滤器交替布置连接成封闭所述风道外壁内侧的结构，实现气体在过滤器装置入口的分流，经过过滤器之后，在过滤器装置出口的汇流。采用上述设计，此滤器装置在保证气浴气体洁净度的同时可以做到整体尺寸小、质量轻，可以安装在风道内部，适用于小型光刻机。

主权项

一种过滤器装置，对光刻机采用洁净气浴的方式，直接吹扫或者保护掩模、基底及光路的洁净，且通过保证光刻机内部相对于净化间的过压，防止外部的污染进入光刻机内部，包括风道外壁，还包括位于所述风道外壁内侧并排设置的多个过滤器以及多个分流板；所述过滤器平行于入风方向安装；所述分流板安装于过滤器的端部；且分流板与过滤器交替布置连接成封闭所述风道外壁内侧的结构，实现气体在过滤器装置入口的分流，以及经过过滤器之后，在过滤器装置出口的汇流，其特征在于：相邻两个过滤器的过风方向相反，相邻两个过滤器之间的分流板安装于两个过滤器的同侧端部。