发明名称 |
一种光刻机平衡质量系统 |
摘要 |
本发明公开了一种光刻机平衡质量系统,其是申请号201110145391.2的分案申请,该系统包括基础框架、大理石平台、微动台、平衡质量块以及反力矩缓冲机构;所述大理石平台固定于所述基础框架上;所述微动台通过垂向气浮垫支撑于所述大理石平台上,且沿X方向及Y方向相对于所述大理石平台运动;所述平衡质量块通过垂向气浮垫与所述基础框架相连,所述垂向气浮垫固定于所述基础框架上,且所述平衡质量块的运动情况与所述微动台的运动情况相反;所述反力矩缓冲机构与所述基础框架及所述平衡质量块相连,用于消除所述平衡质量块运动过程中因重心偏移产生的力矩,并且衰减所述平衡质量块向所述基础框架传递的振动;从而可提高光刻机系统的性能。 |
申请公布号 |
CN104181778B |
申请公布日期 |
2016.08.24 |
申请号 |
CN201410412001.7 |
申请日期 |
2011.05.31 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
夏海;陈庆生 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅;李时云 |
主权项 |
一种光刻机平衡质量系统,包括:基础框架;大理石平台,固定于所述基础框架上;微动台,通过第一垂向气浮垫支撑于所述大理石平台上,且沿X方向及Y方向相对于所述大理石平台运动;平衡质量块,通过第二垂向气浮垫与所述基础框架相连,所述第二垂向气浮垫固定于所述基础框架上,且所述平衡质量块的运动情况与所述微动台的运动情况相反;其特征在于,还包括:反力矩缓冲机构,与所述基础框架及所述平衡质量块相连,用于消除所述平衡质量块运动过程中因重心偏移产生的力矩,并且衰减所述平衡质量块向所述基础框架传递的振动;所述反力矩缓冲机构为柔性铰链,所述柔性铰链的一端与所述基础框架刚性相连,另一端与所述平衡质量块刚性相连;所述柔性铰链沿X向和Y向具有第一刚度,沿Z向具有第二刚度,所述第一刚度小于所述第二刚度。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张东路1525号 |