发明名称 |
纳米颗粒抗反射层 |
摘要 |
公开了供光学元件或光电器件使用的薄膜宽带抗反射层,其中该薄膜宽带抗反射层包括:至少一层薄膜介电层;和置于所述薄膜介电层之上或其内的纳米颗粒的至少一个阵列,其中所述纳米颗粒的介电常数显著不同于所述介电层的介电常数。 |
申请公布号 |
CN103081111B |
申请公布日期 |
2016.08.24 |
申请号 |
CN201180024566.2 |
申请日期 |
2011.04.06 |
申请人 |
荷兰能源研究中心基金会 |
发明人 |
R·德瓦勒;M·何宾克;A·波尔曼 |
分类号 |
H01L31/0216(2014.01)I;G02B1/118(2015.01)I |
主分类号 |
H01L31/0216(2014.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
陈季壮 |
主权项 |
供光学元件或光电器件使用的薄膜宽带抗反射层,它包括:至少一层薄膜介电层;置于所述薄膜介电层之上或之内的至少一个阵列的纳米颗粒,其中所述纳米颗粒的介电常数显著不同于所述介电层的介电常数,其中所述纳米颗粒的至少一部分是介电或半导体的纳米颗粒;其中选择所述纳米颗粒的平均尺寸在100和300nm之间,和其中选择所述颗粒之间的平均距离在200和700nm之间,以便提供与300‑1100nm之间的太阳光谱有关的光子透射率,和所述抗反射层的表面积具有10‑20%的表面覆盖率。 |
地址 |
荷兰勒佩藤 |