用于处理气流的设备

摘要

本发明提供用于处理气流（22）的设备。等离子体消除装置（10）具有反应腔室（14）和等离子体焰炬（12），等离子体焰炬（12）用于生成等离子体流以喷射到腔室内用于处理气流。第一入口（18）输送气流到等离子体消除装置内以进行处理；并且第二入口（20）在设备的正常条件下与试剂源流动连通用来将试剂（24）输送到等离子体装置内来改进处理的效率。在设备的备份条件下，第二入口与气流源流动连通以将气流输送到装置内进行处理。

主权项

一种用于处理来自过程装置的过程废气流的设备，包括：等离子体消除装置，其具有反应腔室和等离子体焰炬，所述等离子体焰炬用于生成等离子体流以喷射到所述腔室内用于处理过程废气流；第一入口，其用于输送所述过程废气流进入所述反应腔室以进行处理；以及，第二入口，其在所述设备的正常条件下与试剂源成流动连通用来将试剂输送到所述反应腔室用来改进所述处理的效率，并且其在所述设备的备份条件下与过程废气流源成流动连通用来将过程废气流输送到所述反应腔室内进行处理。