发明名称 |
光刻设备和器件制造方法 |
摘要 |
公开了包括用于将束投影到衬底的目标部分上的光学装置列的光刻设备,该光学装置列具有配置成将束投影到目标部分上的投影系统。所述光刻设备还包括相对于衬底移动光学装置列或其至少一部分的致动器以及在光学装置列的移动部分和衬底的目标部分之间和/或在光学装置列的移动部分和光学装置列的不可移动部分之间的窗口(940),所述窗口构造和布置在所述光刻设备中用于减小或最小化窗口的移动。 |
申请公布号 |
CN102893217B |
申请公布日期 |
2016.08.17 |
申请号 |
CN201180022425.7 |
申请日期 |
2011.04.08 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
约翰内斯·昂伍李;阿尔伯特·德克;约翰尼斯·斯皮尔蒂杰克;汉瑞克·德曼 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G02B27/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
张启程 |
主权项 |
一种光刻设备,包括:光学装置列,用于将束投影到衬底的目标部分上,所述光学装置列包括配置成将所述束投影到目标部分上的投影系统;致动器,用于相对于衬底移动光学装置列或光学装置列的至少一部分;和窗口,在光学装置列的移动部分和衬底的目标部分之间和/或在光学装置列的移动部分和光学装置列的不可移动部分之间,所述窗口构造和布置在所述光刻设备内,用于减小或最小化窗口的移动,其中所述光刻设备还包括封闭的隔室,该隔室围绕光学装置列的移动部分,所述隔室设置有底板,且其中所述窗口与所述底板柔性地连接并刚性地安装至所述光刻设备的基架或隔室,且其中所述底板是能够相对于窗口移动的。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |