发明名称 |
一种氮氧锌薄膜的制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种氮氧锌薄膜的制备方法,采用射频磁控溅射,以体积百分数99.9‑99.999%的氮化锌靶为溅射靶材,靶材与衬底的距离为20‑150mm,在一定的射频频率下,以体积百分数99.9‑99.999%的氩气为溅射气体,衬底温度为25‑150℃,在0.5‑5W/cm<sup>2</sup>的功率密度下实施溅射,溅射室的背景真空小于1×10<sup>‑7</sup>托,先以所述氩气预溅射一段时间,再以体积百分数99.9‑99.999%的氧气为反应气体,氧气流量0.1‑60sccm,氩气流量5‑100sccm,溅射压强0.1‑10.0Pa,获得氮氧锌薄膜,其中,Zn原子数占51‑66%,N∶O=1∶3~2∶1。本发明解决了氮在氧化锌中固溶度低的问题,制备得到的n型氮氧锌薄膜的载流子迁移率较高,电阻率较低。 |
申请公布号 |
CN103474356B |
申请公布日期 |
2016.08.17 |
申请号 |
CN201310426153.8 |
申请日期 |
2013.09.17 |
申请人 |
深圳丹邦投资集团有限公司 |
发明人 |
刘萍 |
分类号 |
H01L21/363(2006.01)I;C23C16/40(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/363(2006.01)I |
代理机构 |
深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 |
代理人 |
江耀纯 |
主权项 |
一种氮氧锌薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:采用射频磁控溅射,以体积百分数为99.9‑99.999%的氮化锌靶为溅射靶材,溅射靶材与衬底的距离为20‑150mm,在一定的射频频率下,以体积百分数为99.9‑99.999%的氩气为溅射气体,衬底温度为25‑150℃,在1‑3W/cm<sup>2</sup>的功率密度下实施溅射,溅射室的背景真空小于1×10<sup>‑7</sup>托,先以所述氩气预溅射一段时间,当不通入氮气时,再以体积百分数为99.9‑99.999%的氧气为反应气体,氧气流量为4‑10sccm,氩气流量为10‑30sccm;或者当通入氮气时,再以体积百分数为99.9‑99.999%的氧气以及以体积百分数为99.9‑99.999%的氮气作为反应气体,所述氮气流量为20‑40sccm,氧气流量为10‑20sccm,氩气流量为40‑80sccm;溅射压强控制在0.1‑10.0Pa之间,获得所述氮氧锌薄膜,所述氮氧锌薄膜中,Zn原子数占51‑66%,N:O=1:3~2:1,所述氮氧锌薄膜呈非晶态。 |
地址 |
518057 广东省深圳市高新技术产业园北区郎山一路8号 |