一种基于多次迭代刻蚀的透射光学元件损伤阈值提升方法

摘要

本发明涉及一种基于多次迭代刻蚀技术的透射型光学元件损伤阈值提升方法，该方法包括以下步骤：采用高浓度氢氟酸溶液对光学元件进行快速刻蚀，刻蚀深度为d₁；利用环形抛光机对光学元件进行快速抛光，抛光去除深度为d₂；光学元件在300度高温下烘烤，然后利用离子源对光学元件表面进行轰击刻蚀，刻蚀深度为d₃；再次低速抛光处理，抛光去除深度为d₄；再次利用离子源对光学元件表面进行轰击刻蚀，刻蚀深度为d₅。与现有技术相比，本发明具有针对性强、重复性好等优点，通过多次迭代刻蚀，特别是采用逐次递减的去除深度和去除速率，能够大幅提升透射型光学元件的损伤阈值。

主权项

一种基于多次迭代刻蚀技术的透射型光学元件损伤阈值提升方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：①首先，在超声波环境下采用氢氟酸溶液对光学元件进行刻蚀，刻蚀深度为d₁，然后利用去离子水进行漂洗、喷淋，具体为：11)超声波环境为40kHz、80kHz、120kHz、140kHz、170kHz、220kHz和270kHz七频循环振动；12)氢氟酸溶液的浓度为40％，溶液温度为60度，刻蚀时间为5‑30分钟，刻蚀深度d₁为50‑300微米；13)漂洗溶液为去离子水，漂洗时间30分钟；14)喷淋溶液为去离子水，喷淋时间为10分钟；②利用环形抛光机对光学元件进行抛光处理，抛光去除深度为d₂；③将光学元件放入电子束蒸发式镀膜机，在300度高温下烘烤60分钟，利用离子源对光学元件表面进行轰击刻蚀，刻蚀深度为d₃；④再次利用环形抛光机对光学元件进行抛光处理，抛光去除深度为d₄；⑤对光学元件进行清洗，之后将光学元件放入电子束蒸发式镀膜机，再次利用离子源对光学元件表面进行轰击刻蚀，刻蚀深度为d₅。