| 发明名称 | 层叠膜和柔性电子器件 | ||
| 摘要 | 一种层叠膜，其具有挠性基材和形成在上述基材的至少一个表面上的至少1层薄膜层，其中，上述薄膜层中，至少1层满足全部下述条件(i)和(ii)：(i)含有硅原子(Si)、氧原子(O)和氮原子(N)；(ii)对薄膜层的表面进行X射线光电子能谱测定时，由宽扫描能谱计算出的碳原子相对于硅原子的原子数比满足由下述式(1)：0<C/Si≤0.2(1)表示的条件。 | ||
| 申请公布号 | CN105873763A | 申请公布日期 | 2016.08.17 |
| 申请号 | CN201480070669.6 | 申请日期 | 2014.12.11 |
| 申请人 | 住友化学株式会社 | 发明人 | 山下恭弘;伊藤丰;中岛秀明 |
| 分类号 | B32B27/06(2006.01)I;B32B27/16(2006.01)I;C23C16/42(2006.01)I;C23C16/507(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H05B33/02(2006.01)I;H05B33/04(2006.01)I | 主分类号 | B32B27/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 王海川;穆德骏 |
| 主权项 | 一种层叠膜，其具有挠性基材和形成在所述基材的至少一个表面上的至少1层薄膜层，其中，所述薄膜层中，至少1层满足全部下述条件(i)和(ii)：(i)含有硅原子(Si)、氧原子(O)和氮原子(N)；(ii)对薄膜层的表面进行X射线光电子能谱测定时，由宽扫描能谱计算出的碳原子相对于硅原子的原子数比满足由下述式(1)表示的条件：0<C/Si≤0.2 (1)。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||