| 发明名称 | 用于加热元件上的水垢防止的纳米结构化学机械抛光引起的活性纳米结构 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于液体材料的加热中的加热元件(1)。具体而言，本发明涉及一种加热元件(1)，其与液体接触地操作，并且包括纳米结构(30)，所述纳米结构(30)能够借助于自清洁的方法持续地防止加热区(10)中的水垢(20)的累积。 | ||
| 申请公布号 | CN105874102A | 申请公布日期 | 2016.08.17 |
| 申请号 | CN201380079019.3 | 申请日期 | 2013.12.31 |
| 申请人 | 安兹耶因大学 | 发明人 | G·B·巴思木 |
| 分类号 | C23F15/00(2006.01)I;F24D19/00(2006.01)I;H05B3/82(2006.01)I | 主分类号 | C23F15/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 佘鹏;傅永霄 |
| 主权项 | 一种与液体接触地操作的加热元件(1)，其特征在于，包括纳米结构(30)，通过在所述加热元件(5)/水垢(20)的界面(35)上产生界面应力，所述纳米结构(30)使得形成在加热区(10)上的水垢(20)能够破裂和剥离。 | ||
| 地址 | 土耳其伊斯坦布尔 | ||