| 发明名称 |
高密度用ローカルインターコネクト構造 |
| 摘要 |
A local interconnect structure is provided that includes a gate-directed local interconnect coupled to an adjacent gate layer through a diffusion-directed local interconnect. |
| 申请公布号 |
JP5969143(B2) |
申请公布日期 |
2016.08.17 |
| 申请号 |
JP20150559322 |
申请日期 |
2014.03.11 |
| 申请人 |
クアルコム，インコーポレイテッド |
发明人 |
ジョン・ジアンホン・ズ;ギリダール・ナラパティ;プル・チダムバラム |
| 分类号 |
H01L21/8234;H01L21/768;H01L21/8238;H01L27/08;H01L27/088;H01L27/092 |
主分类号 |
H01L21/8234 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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