| 发明名称 | 光学层叠体及光学层叠体的制造方法 | ||
| 摘要 | [课题]本发明提供具有能够设定更复杂图案的图案化偏振片层的光学层叠体。[解决手段]本发明的光学层叠体（1A）具有图案化偏振片层（3A）和基材（2A），该图案化偏振片层（3A）具有单体透过率不同的至少2个偏光区域（31A）、（32A）。前述2个偏光区域（31A）、（32A）的厚度不同。 | ||
| 申请公布号 | CN103649792B | 申请公布日期 | 2016.08.17 |
| 申请号 | CN201280033480.0 | 申请日期 | 2012.12.05 |
| 申请人 | 日东电工株式会社 | 发明人 | 松田祥一;龟山忠幸;友久宽;麻野井祥明;广濑阀;北村喜弘;西田干司 |
| 分类号 | G02B5/30(2006.01)I;G06K17/00(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种光学层叠体，其具有图案化偏振片层和基材，所述图案化偏振片层具有单体透过率不同的至少2个偏光区域。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||