发明名称 柔性随形恒压力抛光装置
摘要 本发明公开了一种柔性随形恒压力抛光装置,包括机架、工件夹紧回转系统和抛光轮系统;所述工件夹紧回转系统设在机架的中部,所述抛光轮系统为两组设在机架上的水平导轨上分别位于工件夹紧回转系的两侧,且分别与恒压力驱动系统连接沿所述导轨运动。本发明是一种具有柔性自适应随形恒定压力及磨料磨损自动补偿性能的抛光设备,通过数控系统控制,可实现工件转速预设、抛光轮转速预设、预设的抛光压力操持恒定、磨料磨损自动补偿等功能,并能实现对各种外形工件的周边进行抛光加工,具有结构合理,自动随形,自动补偿,压力恒定,维护方便,加工精度高,作业效率高等优点,可广泛应用在工件周边表面抛光研磨中。
申请公布号 CN103465127B 申请公布日期 2016.08.17
申请号 CN201310393729.5 申请日期 2013.09.03
申请人 宇环数控机床股份有限公司 发明人 许世雄;彭关清
分类号 B24B9/00(2006.01)I;B24B41/06(2012.01)I;B24B51/00(2006.01)I 主分类号 B24B9/00(2006.01)I
代理机构 长沙新裕知识产权代理有限公司 43210 代理人 刘熙
主权项 一种柔性随形恒压力抛光装置,包括机架、工件夹紧回转系统和抛光轮系统;其特征是所述工件夹紧回转系统设在机架的中部,所述抛光轮系统为两组,设在机架上的水平导轨上,分别位于工件夹紧回转系统的两侧,且分别与恒压力驱动系统连接沿所述水平导轨运动,所述两组抛光轮系统同时对工件进行抛光加工,所述抛光轮系统包括依次连接的抛光轮、联轴器、减速机与电机,两组抛光轮系统中的双抛光轮通过恒压力驱动系统以数控系统预设的恒定的压力紧靠工件,并随着工件旋转时半径的变化在水平导轨上水平移动,从而实现自适应随形恒压力抛光作业。
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