| 发明名称 | 阴极配置、电子枪以及包括此电子枪的光刻系统 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种阴极配置(20)，其包括：热离子阴极，其包括发射部分(30)和贮存器(38)，该发射部分设置有用于发射电子的发射表面，该贮存器用于保留材料，其中，该材料在受热时释放功函数降低微粒，这些功函数降低微粒朝该发射部分扩散并且以第一蒸发速率从该发射表面处发出；聚焦电极(40)，其包括聚焦表面，用以聚焦从该阴极的发射表面处被发射的电子；以及可调整的热源(50)，其被配置成用以保持该聚焦表面在可防止功函数降低微粒累积在该聚焦表面上的温度。 | ||
| 申请公布号 | CN105874555A | 申请公布日期 | 2016.08.17 |
| 申请号 | CN201480071807.2 | 申请日期 | 2014.12.22 |
| 申请人 | 迈普尔平版印刷IP有限公司 | 发明人 | L.迪努-格尔特勒;E.P.霍杰沃斯特 |
| 分类号 | H01J3/02(2006.01)I;H01J1/28(2006.01)I;H01J1/46(2006.01)I;H01J37/07(2006.01)I | 主分类号 | H01J3/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 刘文洁 |
| 主权项 | 一种阴极配置(20)，其包括：热离子阴极，其包括发射部分(30)和贮存器(38)，所述发射部分(30)设置有用于发射电子的发射表面(32)，所述贮存器(38)用于保留材料，其中所述材料在受热时释放功函数降低微粒(70)，所述功函数降低微粒(70)朝所述发射部分扩散并且以第一蒸发速率(Фc)从所述发射表面处发出；聚焦电极(40)，其包括聚焦表面(42)，用以聚焦从所述阴极的发射表面(32)处被发射的电子；以及可调整的热源(50)，其被配置成用以使所述聚焦表面保持在防止功函数降低微粒累积在该聚焦表面上的温度(Te)。 | ||
| 地址 | 荷兰代夫特 | ||