发明名称 |
研磨垫调整器及调整装置 |
摘要 |
本实用新型提供一种研磨垫调整器及调整装置,至少包括:第一基底盘、第二基底盘及连接层;第一基底盘包括第一表面及第二表面,第一基底盘的第一表面设有金刚石颗粒;第二基底盘包括第一表面及第二表面,第二基底盘的第二表面设有软毛刷;第一基底盘与第二基底盘通过连接层结合在一起。本实用新型的研磨垫调整器通过将表面设有金刚石颗粒的第一基底盘与表面设有软毛刷的第二基底盘通过连接层结合在一起,可以同时实现对“硬”抛光垫及对“软”抛光垫进行调整;当对一种抛光垫调整完成后,需要对另一种抛光垫进行调整时,只需要将所述研磨垫调整器翻转180°即可。本实用新型的研磨垫调整器及调整装置具有结构简单、成本小、易于操作等优点。 |
申请公布号 |
CN205438219U |
申请公布日期 |
2016.08.10 |
申请号 |
CN201620224125.7 |
申请日期 |
2016.03.22 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
唐强 |
分类号 |
B24B53/017(2012.01)I;B24B53/12(2006.01)I |
主分类号 |
B24B53/017(2012.01)I |
代理机构 |
上海光华专利事务所 31219 |
代理人 |
余明伟 |
主权项 |
一种研磨垫调整器,其特征在于,所述研磨垫调整器至少包括:第一基底盘、第二基底盘及连接层;所述第一基底盘包括第一表面及第二表面,所述第一基底盘的第一表面设有金刚石颗粒;所述第二基底盘包括第一表面及第二表面,所述第二基底盘的第二表面设有软毛刷;所述第一基底盘与所述第二基底盘通过所述连接层结合在一起,且所述连接层与所述第一基底盘的第二表面及所述第二基底盘的第一表面相接触。 |
地址 |
100176 北京市大兴区大兴区经济技术开发区(亦庄)文昌大道18号 |