发明名称 めっき処理方法、めっき処理システムおよび記憶媒体
摘要 A plating method can improve adhesivity with an underlying layer. The plating method of performing a plating process on a substrate includes forming a first plating layer 23a serving as a barrier film on a substrate 2; baking the first plating layer 23a; forming a second plating layer 23b serving as a barrier film; and baking the second plating layer 23b. A plating layer stacked body 23 serving as a barrier film is formed of the first plating layer 23a and the second plating layer 23b.
申请公布号 JP5968657(B2) 申请公布日期 2016.08.10
申请号 JP20120065489 申请日期 2012.03.22
申请人 東京エレクトロン株式会社 发明人 田 中 崇;稲 富 裕一郎;水 谷 信 崇;齋 藤 祐 介;岩 下 光 秋
分类号 C23C18/18;C23C18/16;C25D5/54 主分类号 C23C18/18
代理机构 代理人
主权项
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