发明名称 |
用于制造薄偏振片的方法以及使用该方法制造的薄偏振片 |
摘要 |
本发明涉及一种用于制造薄偏振片的方法以及使用该方法制造的薄偏振片。所述方法包括:制备厚度为20μm以下的未拉伸的基于聚乙烯醇的膜的步骤,其中,将所述膜拉伸6倍所施加的强度是4N以上;以及通过单独拉伸所述未拉伸的基于聚乙烯醇的膜形成厚度为10μm以下的拉伸的基于聚乙烯醇的膜的单一拉伸步骤。 |
申请公布号 |
CN105849603A |
申请公布日期 |
2016.08.10 |
申请号 |
CN201580003227.4 |
申请日期 |
2015.09.25 |
申请人 |
LG化学株式会社 |
发明人 |
南星铉;郑棕炫;罗钧日;柳惠珉 |
分类号 |
G02B5/30(2006.01)I;B29C55/02(2006.01)I;B29K29/00(2006.01)N;B29L7/00(2006.01)N |
主分类号 |
G02B5/30(2006.01)I |
代理机构 |
北京金信知识产权代理有限公司 11225 |
代理人 |
张皓;李海明 |
主权项 |
一种制造薄偏振片的方法,所述方法包括:制备厚度为20μm以下的未拉伸的基于聚乙烯醇的膜的步骤,其中,将所述膜拉伸6倍所施加的强度是4N以上;以及通过单独拉伸所述未拉伸的基于聚乙烯醇的膜形成厚度为10μm以下的拉伸的基于聚乙烯醇的膜的单一拉伸步骤。 |
地址 |
韩国首尔 |