发明名称 |
一种提高了BVcbo的双极型晶体管及其生产工艺 |
摘要 |
本发明公开了一种提高了BVcbo(集电极-基极击穿电压)的双极型晶体管及其生产工艺,通过将沟槽场氧化隔离工艺技术与结终端工艺技术结合起来,并且将沟槽的场氧化过程分成两步,结终端硼离子注入安排在两步场氧化之间进行,不但可以得到合理的结终端硼的结深,而且简化了工艺流程,并且由于结终端离子注入窗口与沟槽边缘无需对准,因此在结终端与沟槽的交界处可以得到较为固定的掺杂硼浓度,以致可以得到稳定的BVcbo,使用该工艺技术方法生产的NPN硅双极型微波功率晶体管器件不但提高了BVcbo 20伏以上,能够提供高的输出功率,而且减小了集电结寄生电容,保证了器件的高频性能。 |
申请公布号 |
CN103296072B |
申请公布日期 |
2016.08.10 |
申请号 |
CN201310255243.5 |
申请日期 |
2013.06.25 |
申请人 |
江苏博普电子科技有限责任公司 |
发明人 |
陈强;张复才;沈美根;多新中;郑立荣;姚荣伟 |
分类号 |
H01L29/73(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/331(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/73(2006.01)I |
代理机构 |
南京纵横知识产权代理有限公司 32224 |
代理人 |
董建林 |
主权项 |
一种提高了BVcbo的双极型晶体管,其特征在于:包括高浓度掺杂的N‑型硅衬底(50),所述N‑型硅衬底(50)的顶部设置有N‑型外延硅(52),所述N‑型外延硅(52)的两侧通过沟槽、氧化和平坦化工艺技术形成有平坦氧化层(62),两个所述平坦氧化层(62)之间的N‑型外延硅(52)的上表面设有本征基区(66),所述本征基区(66)的两侧设有非本征基区(68),两个所述非本征基区(68)之间还设置有发射区(70);所述平坦氧化层(62)与非本征基区(68)之间均设有冶金结(64)。 |
地址 |
214131 江苏省无锡市高浪路999号启航大厦11层 |