| 发明名称 | 用于支撑可旋转靶材的装置和溅射设备 | ||
| 摘要 | 提供了一种用于支撑沉积设备的可旋转靶材(1)的装置，沉积设备用于将材料溅射到衬底(20)上，其中该装置包括：驱动单元(2)，其用于使可旋转靶材(1)旋转；环形部分(3)，其连接到驱动单元(2)以用于将驱动单元安装到可旋转靶材(1)；以及屏蔽件(4)，其用于覆盖环形部分(3)。屏蔽件(4)适合于与环形部分(3)一同旋转；并且包括组装到一起的多个部件。此外，也提供了溅射设备和用于支撑可旋转靶材的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN102834896B | 申请公布日期 | 2016.08.10 |
| 申请号 | CN201280000985.7 | 申请日期 | 2012.01.04 |
| 申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | 法兰克·施纳朋伯格;于尔根·穆尔特尔 |
| 分类号 | H01J37/34(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 侯颖媖 |
| 主权项 | 一种用于支撑沉积设备的可旋转靶材(1)的装置，所述沉积设备用于将材料溅射到衬底(20)上，所述装置包括：驱动单元(2)，其用于使所述可旋转靶材(1)旋转；环形部分(3)，其连接到所述驱动单元(2)以用于将所述驱动单元安装到所述可旋转靶材(1)；以及屏蔽件(4)，其用于覆盖所述环形部分(3)；其中，所述屏蔽件(4)适合于与所述环形部分(3)一同旋转；并且其中所述屏蔽件包括组装到一起的多个部件，其中所述部件没有孔。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||